반도체 Engineer의 Excel | Lot·Trend·Pivot 기초

Excel은 Lot·Wafer·측정 데이터를 정리하고 요약·시각화하는 분석 도구입니다. Pivot·Trend·Scatter Plot은 질문에 맞는 집계와 비교를 돕습니다.

기초 · 직무 연결 · 업데이트 2026-10-06

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쉬운 설명: 먼저 질문을 정하는 분석 도구

“PM 뒤 CD가 바뀌었나?”를 보려면 Lot·Wafer·장비·측정 시간과 CD를 정리해야 합니다. Excel은 이런 표를 빠르게 살펴볼 수 있습니다. 버튼을 많이 아는 것보다 한 행이 무엇을 뜻하고 어떤 비교를 하는지 설명하는 것이 먼저입니다.

핵심 원리: 표와 집계 단위

교육용 표의 열을 Lot, Wafer, Chamber, Step, Site, Time, CD_nm으로 정해봅니다. 행 하나를 측정점 하나로 정하면 같은 Wafer에 여러 행이 생깁니다. 단위·중복·빈칸·비정상 문자열을 확인하고 원본을 보존합니다. 평균의 기준을 측정점·Wafer·Lot 중 무엇으로 할지 정합니다.

Pivot·Trend·Scatter Plot

PivotTable로 Chamber별 평균·개수를 요약하고 시간 Trend로 변화점을 봅니다. 한 Chamber의 표본 수가 아주 작거나 제품 구성이 다르면 평균 비교가 왜곡될 수 있습니다. Scatter Plot은 두 연속값의 관계를 보는 데 유용하며 시간 Trend와 질문이 다릅니다. PivotChart와 XY Scatter 지원은 별개이므로 목적에 맞는 표와 차트를 선택합니다.

왜 중요한가: 요약이 숨기는 것

평균이 같아도 분포와 산포가 다를 수 있습니다. 위치 수가 많은 Wafer가 측정점 전체 평균에서 더 큰 가중치를 갖는지 확인합니다. 빈칸을 0으로 바꾸거나 필터된 범위를 잊으면 실제 공정 변화와 다른 결론이 생길 수 있습니다.

현업 연결: 원본 → 정리 → 비교 → 검증

Lot Data와 PM 이력을 같은 시간 기준으로 연결하고 같은 제품·Step을 비교합니다. 수식·필터·범위·제외 이유와 파일 시점을 기록합니다. SQL은 필요한 원본을 가져오는 데, Python은 반복 분석·시각화 자동화에 연결할 수 있습니다. 이 글은 일반 OA 자격증 강좌가 아닙니다.

자주 하는 오해

상관이 높은 Scatter Plot이 원인을 증명하지는 않습니다. Trend 이동도 측정 조건 변경일 수 있습니다. 관리한계가 없는 시간 차트를 SPC 관리도라고 부르지 않고, 설명할 수 있는 데이터 정의와 검증 근거를 남깁니다.

공개 참고 자료

개념 확인: 2026-10-06. 공개 자료로 원리를 확인하고 학생용 설명·가상 예·연습문제는 FlashMemory가 작성했습니다. 회사 내부 Recipe나 Spec을 사용하지 않습니다.

• Microsoft · PivotTables/PivotCharts
• Microsoft · Chart Types